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PHI 硬X射線光電子能譜儀，下一代透明發(fā)光材料使用直徑約為10nm~50nm 的納米量子點(QDs)，結合使用 XPS(Al Ka X射線)和 HAXPES(Cr Ka x射線)對同一微觀特征區(qū)域進行分析，可以對 QDs 進行詳細的深度結構分析。

PHI公司的PHI 710俄歇電子能譜儀是一臺設計高性能的俄歇電子能譜（AES）儀器。該設備能分析納米級特征區(qū)域,超薄薄膜和多層結構表界面的元素態(tài)和化學態(tài)信息。

飛行時間二次離子質(zhì)譜儀PHI nano TOF3+，先進的多功能TOF-SIMS具有更強大的微區(qū)分析能力，更加出色的分析精度

PHI X射線光電子能譜儀 提供了一種全新的用戶體驗，儀器高性能、全自動化、簡單易操作。 操作界面可在同一個屏幕內(nèi)設置常規(guī)和高級的多功能測試參數(shù)，同時保留諸如進樣照片導航和 SXI 二次電子影像精細定位等功能。

C60-40 離子源系統(tǒng) 是目前性能較高的C60光束，具有300納米的光斑尺寸和高達1毫安的束流。從生物醫(yī)學應用到聚合物科學和冶金，C60-40都可以做到這一點。得益于與其他C60離子束相同的均勻濺射，但由于更高的束能量，C60-40具有難以置信的精細斑點和更高的蝕刻率，是一種用于廣泛應用的極其強大的分析工具。

lonoptika公司的C60-20 離子源系統(tǒng)是一種高性能的20kV離子束系統(tǒng)，用于高化學復雜性樣品的SIMS分析。C60-20是一種功能強大，成本效益高的分析離子束系統(tǒng)，可以較大限度地利用SIMS分析。